三星電子與 ASML 強化戰略聯盟，瞄準次世代半導體技術

三星電子於 2026 年 9 月 8 日宣布與全球半導體設備大廠 ASML 擴大戰略合作夥伴關係，雙方將針對人工智慧時代所需的「高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）」微影設備及先進半導體製造技術進行深度研發，以確保未來的市場競爭力。

背景說明

在半導體產業中，微影設備是將電路圖案轉移至晶圓上的關鍵製程。ASML（艾司摩爾）是目前全球唯一能供應極紫外光（EUV）微影設備的企業，對於追求晶片微縮的晶圓代工廠而言，該設備至關重要。三星電子（Samsung Electronics）作為全球領先的半導體製造商，長期與 ASML 維持合作關係，透過共享資源與技術，共同突破物理製程的極限。

隨著人工智慧（AI）需求激增，半導體產業正處於技術轉型期。為了在有限的資源環境下提升競爭力，兩家企業決定深化合作，透過引入更先進的設備，加速次世代晶片的開發與部署。

關鍵數據

• 發布日期：2026年9月8日
• 合作企業：三星電子、ASML
• 核心領域：High NA EUV 微影技術、先進半導體製造
• 投資金額：未公開

技術影響

此次合作的核心在於引入「高數值孔徑（High NA）EUV」設備。與傳統 EUV 設備相比，High NA EUV 將鏡頭的數值孔徑（NA）從 0.33 提升至 0.55。根據技術計算，其解析度提升了約 66.6%（0.55 ÷ 0.33 = 1.666），這項進步有助於實現更精密的電路圖案，進而提升高性能 AI 晶片的生產效率與運算能力。

未來展望

三星電子與 ASML 已正式啟動共同作業，目標是加速次世代半導體製造技術的開發與實際產線部署。雙方在聲明中表示：「基於多年成功的合作經驗，兩家公司將攜手加速技術開發與部署。」目前兩家公司尚未公開具體的設備採購數量或詳細時程，後續進展將取決於雙方在技術研發上的具體成果。

來源

1. Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor Manufacturing — 삼성전자 글로벌 뉴스룸(영문)
2. Collaboration — Wikipedia (en)